embroidary框架
公开号: JP4973015B2
申请人:重庆大学
公开（公告）号: JP4973015B2
公开（公告）日:2012-07-11
申请号:JP2006154440
申请日:2006-06-02
专利类型:发明授权
公开国别:日本
IPC主分类：D05B39/00
申请人地址：愛知県名古屋市瑞穂区苗代町１５番１号
申请人国家/地区：日本
摘要（中文）
一个刺绣架(1)包括一个下框架(2)，一个上框架(10)保持工件布在配合与所述下框架(2)之间的所述框架(2，10)，一夹持机构(3a～R; 3A～L)压该上框架(10)靠在该下框架(2)和保持该上框架(10)在一个压状态，和一个保持辅助部件(20)提高保持所述工件的布和可拆卸地连接到所述布保持在至少一个的所述上和下侧的框架(10，2)。